真空涂層技術(shù)起步時(shí)間不長(zhǎng)，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將CVD(化學(xué)氣相沉積)技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行(工藝溫度高于1000oC)，涂層種類單一，局限性很大，因此，其發(fā)展初期未免差強(qiáng)人意。

到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn)PVD(物理氣相沉積) 技術(shù)，為真空涂層開創(chuàng)了一個(gè)充滿燦爛前景的新天地，之后在短短的二、三十年間PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因，是因?yàn)槠湓谡婵彰芊獾那惑w內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保；因?yàn)槠淠艿玫焦饬痢⑷A貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，可謂五彩繽紛，能夠滿足裝飾性的各種需要；又由于PVD 技術(shù)，可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果；此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個(gè)特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了PCVD(物理化學(xué)氣相沉積)、MT-CVD(中溫化學(xué)氣相沉積)等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮，如今在這一領(lǐng)域中，已呈現(xiàn)出百花齊放，百家爭(zhēng)鳴的喜人景象。與此同時(shí)，我們還應(yīng)該清醒地看到，真空涂層技術(shù)的發(fā)展又是嚴(yán)重不平衡的。由于刀具、模具的工作環(huán)境極其惡劣，對(duì)薄膜附著力的要求，遠(yuǎn)高于裝飾涂層。因而，盡管裝飾涂層的廠家已遍布各地，但能夠生產(chǎn)工模涂層的廠家并不多。再加上刀具、模具涂層售后服務(wù)的欠缺，到目前為止，國內(nèi)大多數(shù)涂層設(shè)備廠家都不能提供完整的刀具涂層工藝技術(shù)(包括前處理工藝、涂層工藝、涂后處理工藝、檢測(cè)技術(shù)、涂層刀具和模具的應(yīng)用技術(shù)等)，而且，它還要求工藝技術(shù)人員，除了精通涂層的專業(yè)知識(shí)以外，還應(yīng)具有扎實(shí)的金屬材料與熱處理知識(shí)、工模涂層前表面預(yù)處理知識(shí)、刀具、模具涂層的合理選擇以及上機(jī)使用的技術(shù)要求等，如果任一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題，都會(huì)給使用者產(chǎn)生使用效果不理想這樣的結(jié)論。所有這些，都嚴(yán)重制約了該技術(shù)在刀具、模具上的應(yīng)用。另一方面，由于該技術(shù)是一門介于材料學(xué)、物理學(xué)、電子、化學(xué)等學(xué)科的新興邊緣學(xué)科，而國內(nèi)將其應(yīng)用于刀具、模具生產(chǎn)領(lǐng)域內(nèi)的為數(shù)不多的幾個(gè)骨干廠家，大多走的也是一條從國外引進(jìn)先進(jìn)設(shè)備和工藝技術(shù)的路子，尚需一個(gè)消化、吸收的過程，因此，國內(nèi)目前在該領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)力量與其發(fā)展很不相稱，急需奮起直追。

工具涂層發(fā)展?fàn)顩r

PVD是英文“Physical Vapor Deposition”的縮寫形式，意思是物理氣相沉積。我們現(xiàn)在一般地把真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍等都稱為物理氣相沉積。較為成熟的PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機(jī)電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動(dòng)的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。此外，多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定，尤其是在做TiN 涂層時(shí)，每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的DC 電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm 時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法增厚涂層，最后再利用多弧鍍達(dá)到最終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。大約在八十年代中后期，出現(xiàn)了熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍、熱陰極弧磁控等離子鍍膜機(jī)，應(yīng)用效果很好，使TiN 涂層刀具很快得到普及性應(yīng)用。其中熱陰極電子槍蒸發(fā)離子鍍，利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料，利用鉭燈絲給工件加熱、除氣，利用電子槍增強(qiáng)離化率，不但可以得到厚度3~5μm的TiN 涂層，而且其結(jié)合力、耐磨性均有不俗表現(xiàn)，甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設(shè)備都只適合于TiN涂層，或純金屬薄膜。對(duì)于多元涂層或復(fù)合涂層，則力不從心，難以適應(yīng)高硬度材料高速切削以及模具應(yīng)用多樣性的要求。目前，一些發(fā)達(dá)國家(如德國CemeCon、英國ART-TEER )在傳統(tǒng)的磁控濺射原理基礎(chǔ)上，用非平衡磁場(chǎng)代替原先的平衡磁場(chǎng)、50KHz 的中頻電源代替原來的直流電源、脈沖電源取代以往的直流偏壓，采用輔助陽極技術(shù)等，使磁控濺射技術(shù)逐步成熟，已大批量應(yīng)用在工模涂層上，現(xiàn)在已穩(wěn)定生產(chǎn)的涂層主要有TiAlN、AlTiN、TiB2、DLC、CrN等等，我國廣東、江蘇、貴州、株洲等地也已陸續(xù)引進(jìn)此種設(shè)備，大有星火燎原之勢(shì)。

工具涂層設(shè)備基本構(gòu)件

現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測(cè)量技術(shù)、非平衡磁控濺射技術(shù)、輔助陽極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測(cè)量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測(cè)溫部件、離子蒸發(fā)或?yàn)R射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。

1 真空室

涂層設(shè)備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機(jī)兩種形式，由于工模涂層對(duì)加熱及機(jī)械傳動(dòng)部分有較高要求，而且工模形狀、尺寸千差萬別，連續(xù)涂層生產(chǎn)線通常難以滿足要求，須采用單室涂層機(jī)。

2 真空獲得部分

在真空技術(shù)中，真空獲得部分是重要組成部分。由于工模件涂層高附著力的要求，其涂層工藝要求良好的本底真空，合理選擇真空獲得設(shè)備，實(shí)現(xiàn)高真空度至關(guān)重要。就目前來說，還沒有一種泵能從大氣壓一直工作到接近超高真空。因此，真空的獲得不是一種真空設(shè)備和方法所能達(dá)到的，必須將幾種泵聯(lián)合使用，如機(jī)械泵、分子泵系統(tǒng)等。

3 真空測(cè)量部分

真空系統(tǒng)的真空測(cè)量部分，就是要對(duì)真空室內(nèi)的壓強(qiáng)進(jìn)行測(cè)量。像真空泵一樣，沒有一種真空計(jì)能測(cè)量整個(gè)真空范圍，人們于是按不同的原理和要求制成了許多種類的真空計(jì)。

4 電源供給部分

靶電源主要有直流電源(如MDX)、中頻電源(如美國AE公司的PE、PEII、PINACAL)；工件本身通常需加直流電源(如MDX)、脈沖電源(如美國AE公司生產(chǎn)的PINACAL+)、或射頻電源(RF)。

5 工藝氣體輸入系統(tǒng)

工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮?dú)?N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應(yīng)，經(jīng)氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計(jì)、電磁閥、壓電閥，然后通入真空室。這種氣體輸入系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是，管路簡(jiǎn)捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各涂層機(jī)之間互不影響。也有多臺(tái)涂層機(jī)共用一組氣瓶的情況，這種情況在一些規(guī)模較大的涂層車間可能有機(jī)會(huì)看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統(tǒng)一規(guī)劃、統(tǒng)一布局。缺點(diǎn)是，由于接頭增多，使漏氣機(jī)會(huì)增加。而且，各涂層機(jī)之間會(huì)互相干擾，一臺(tái)涂層機(jī)的管路漏氣，有可能會(huì)影響到其他涂層機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，更換氣瓶時(shí)，必須保證所有主機(jī)都處于非用氣狀態(tài)。

6 機(jī)械傳動(dòng)部分

刀具涂層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在涂層過程中須有三個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量才能滿足要求。即在要求大工件臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)(I)的同時(shí)，小的工件承載臺(tái)也轉(zhuǎn)動(dòng)( II),并且工件本身還能同時(shí)自轉(zhuǎn)(III)。在機(jī)械設(shè)計(jì)上，一般是在大工件轉(zhuǎn)盤底部中央為一大的主動(dòng)齒輪，周圍是一些小的星行輪與之嚙合，再用撥叉撥動(dòng)工件自轉(zhuǎn)。當(dāng)然，在做模具涂層時(shí)，一般有兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)量就足夠了，但是齒輪可承載量必須大大增強(qiáng)。

7 加熱及測(cè)溫部分

做工模涂層的時(shí)候，如何保證被鍍工件均勻加熱比裝飾涂層加熱要重要得多。工模涂層設(shè)備一般均有前后兩個(gè)加熱器，用熱電偶測(cè)控溫度。但是，由于熱電偶裝夾的為置不同，因而，溫度讀數(shù)不可能是工件的真實(shí)溫度。要想測(cè)得工件的真實(shí)溫度，有很多方法，這里介紹一種簡(jiǎn)便易行的表面溫度法(Surface Thermomeer)。該溫度計(jì)的工作原理是，當(dāng)溫度計(jì)受熱，底部的彈簧將受熱膨脹，使指針推動(dòng)定位指針旋轉(zhuǎn)，直到最高溫度。降溫的時(shí)候，彈簧收縮，指針反向旋轉(zhuǎn)，但定位指針維持在最高溫度位置不動(dòng)，開門后，讀取定位指針指示的溫度，即為真空室內(nèi)加熱時(shí)，表面溫度計(jì)放置位置所曾達(dá)到的最高溫度值。

8 離子蒸發(fā)及濺射源

多弧鍍的蒸發(fā)源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，近幾年也出現(xiàn)了長(zhǎng)方形的多弧靶，但未見有明顯效果。圓餅靶裝在銅靶座(陰極座)上面，兩者為螺紋連接。靶座中裝有磁鐵，通過前后移動(dòng)磁鐵，改變磁場(chǎng)強(qiáng)度，可調(diào)整弧斑移動(dòng)速度及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導(dǎo)電、導(dǎo)熱性，還可以在靶與靶座之間加錫(Sn)墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長(zhǎng)方形或圓柱形靶材，

9 水冷系統(tǒng)

因?yàn)楣つＭ繉訒r(shí)，為了提高金屬原子的離化率，各個(gè)陰極靶座都盡可能地采用大的功率輸出，需要充分冷卻；而且，工模涂層中的許多種涂層，加熱溫度為400~500oC，因此，對(duì)真空室壁、對(duì)各個(gè)密封面的冷卻也很重要，所以冷卻水最好采用18~20oC 左右的冷水機(jī)供水。為了防止開門后，低溫的真空室壁、陰極靶與熱的空氣接觸析出水珠，在開門前10 分鐘左右，水冷系統(tǒng)應(yīng)有能力切換到供熱水狀態(tài)，熱水溫度約為40~45oC。

工具涂層技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

1、涂層成分將趨于多元化、復(fù)合化

第一代PVD涂層主要以TiN為主，在此基礎(chǔ)上，又發(fā)展了TiC、 TiCN、ZrN、CrN、WC等多種單一金屬涂層。伴隨PVD沉積技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展，鋁元素技加人涂層中，含鋁的多元金屬合金涂層如TiAIN、TiAICN等相繼問世，其耐磨性及紅硬性比單一金屬涂層提高了很多，可以用于較高的切削速度，如滾切，可達(dá)到150m/min。后來，人們考慮將多種不同種類涂層分層沉積到刀具上以發(fā)揮不同涂層的優(yōu)勢(shì)又成為一種趨勢(shì)，如TiN+TiCN+TiN，TiN+TiALN，TiAIN+WC/C等。近年來， PVD涂層技術(shù)又向前邁進(jìn)了一步，國外多家涂層公司已開發(fā)出了脈沖涂層技術(shù)并開始應(yīng)用，如瑞士Balzers公司的P3E(Pulse Enhanced Electron Emission脈沖增強(qiáng)電子發(fā)射)技術(shù)，德國Cemecon公司的H.I.P_(High Ion Pulse，高能粒子脈沖)技術(shù)。這兩種新技術(shù)都是利用脈沖電子激活電弧蒸發(fā)靶材，由于該工藝可在氧氣氛圍中運(yùn)行，所以， 理論上講，用這種工藝幾乎可以沉積任何金屬氧化物(如A12O3，ZrO2，Cr2O3，Ta2O5等)及其化合物涂層。目前，Al2O3涂層已進(jìn)人實(shí)用試驗(yàn)階段，相信在不久的將來就會(huì)廣泛應(yīng)用。

2.涂層的應(yīng)用開發(fā)更具針對(duì)性

為滿足不同的應(yīng)用要求，涂層的開發(fā)設(shè)計(jì)越來越具有針對(duì)性。針對(duì)不同的應(yīng)用領(lǐng)域如鉆削、銑削、干式滾切、沖壓、拉深等的特點(diǎn)和特性要求，開發(fā)在這方面具有相對(duì)優(yōu)勢(shì)的涂層。經(jīng)過不斷努力和嘗試，在某些領(lǐng)域已獲得了成功，如高鋁含量約TiX(Al：Ti一2：1)涂層應(yīng)用在銑削上，不含Ti的涂層AICrN應(yīng)用高速干式滾切上，復(fù)合涂層CrN+TISIN應(yīng)用在鉆削上，復(fù)合涂層TIN+TCX應(yīng)用在深拉模具上，壽命都明顯優(yōu)于其他涂層。另外如針對(duì)抗腐蝕(Crx涂層)、“自潤滑(WC/C涂層)、軟材料加工(MoS2涂層)、高硬材料加工(CBN、Dimond涂層)的各種有針對(duì)性的涂層等都早已獲得了廣泛應(yīng)用。雖然這些涂層在各自領(lǐng)域應(yīng)用非常成功，但隨著PVD涂層技術(shù)的不斷發(fā)展，新的更具針對(duì)性的涂層也會(huì)繼續(xù)不斷地開發(fā)以替代這些現(xiàn)有涂層。

3.涂層的沉積顆粒趨于納米化

隨著納米技術(shù)的發(fā)展和涂層技術(shù)的進(jìn)步，納米刀具涂層也引起了廣大研究者和PVD涂層服務(wù)公司的關(guān)注。涂層沉積顆粒的納米化，可以增強(qiáng)涂層與基體以及各層間的結(jié)合強(qiáng)度，同時(shí)可以降低涂層表面粗糙度。目前，大多數(shù)涂層的沉積顆粒仍然較大，雖然有稱為納米級(jí)的涂層，但在涂層的最后表面上仍然可以發(fā)現(xiàn)較大的顆粒，涂層表面仍然較粗糙。減小涂層沉積顆粒的大小并保持工藝穩(wěn)定以避免較大異常顆粒的出現(xiàn)，將成為涂層發(fā)展的又一個(gè)方向，尤其是在鏡面上的應(yīng)用、雖然有限公司已經(jīng)開發(fā)出鏡面涂層，但質(zhì)量和穩(wěn)定性較差，另外，工藝也較 復(fù)雜。在未來的涂層研發(fā)中，涂層顆粒的納米化以及涂層層間厚度的納米化將是 主要發(fā)展方向這對(duì)于提高涂層的綜合性能，降低層間應(yīng)力具有重要的意義，同時(shí)會(huì)提高鏡面的光潔度進(jìn)一步擴(kuò)展涂層在精密成型行業(yè)的廣泛應(yīng)用。

4、涂層的工藝溫度越來越低

從一般CVD涂層1000℃左右的沉積溫度到PVD和PECVD涂層500℃左右的沉積溫度，涂層的沉積溫度已降低了，因此，涂層的應(yīng)用范圍也擴(kuò)大了，但是，500℃左右的沉積溫度仍然會(huì)對(duì)涂層工件產(chǎn)生不良影響，如變形、基體硬度降低等。因此，需要對(duì)涂層工件的前期熱處理提出特殊要求，如工件的回火溫度不得低于涂層溫度。更低溫度的涂層，如涂層溫度在200℃以下，將消除這些限制， 使得可用于涂層的材料種類更多，前期熱處理的選擇更加靈活，不同的表面改性技術(shù)的綜合應(yīng)用將更加可行。同時(shí)，低溫涂層的應(yīng)用，也會(huì)降低涂層設(shè)備的能耗，在節(jié)約能源方面具有一定的環(huán)保作用。另外，涂層溫度的降低，使得加熱和冷卻時(shí)間減少也會(huì)縮短涂層的交貨周期，效率更高，所以，低溫涂層將會(huì)極大地促進(jìn)涂層的應(yīng)用、普及，必將成為PVD涂層發(fā)展的，一個(gè)重要方向。

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